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文献
J-GLOBAL ID:201702288535714749   整理番号:17A1273394

高性能SiCパワーMOSFETのためのフリー金属/高kゲートスタックの信頼性を意識した設計【Powered by NICT】

Reliability-aware design of metal/high-k gate stack for high-performance SiC power MOSFET
著者 (11件):
Hosoi Takuji
(Graduate School of Eng., OsakaUniversity, Suita, Osaka, Japan)
Azumo Shuji
(Yamanashi Regional Office, Tokyo Electron Limited, Nirasaki, Yamanashi, Japan)
Kashiwagi Yusaku
(Yamanashi Regional Office, Tokyo Electron Limited, Nirasaki, Yamanashi, Japan)
Hosaka Shigetoshi
(Yamanashi Regional Office, Tokyo Electron Limited, Nirasaki, Yamanashi, Japan)
Yamamoto Kenji
(Yamanashi Regional Office, Tokyo Electron Limited, Nirasaki, Yamanashi, Japan)
Aketa Masatoshi
(Yamanashi Regional Office, Tokyo Electron Limited, Nirasaki, Yamanashi, Japan)
Asahara Hirokazu
(ROHM Co., Ltd., Ukyo-ku, Kyoto, Japan)
Nakamura Takashi
(ROHM Co., Ltd., Ukyo-ku, Kyoto, Japan)
Kimoto Tsunenobu
(Dept. Electronic Science and Engineering, Kyoto University, Nishikyo-ku, Kyoto, Japan)
Shimura Takayoshi
(Graduate School of Eng., OsakaUniversity, Suita, Osaka, Japan)
Watanabe Heiji
(Graduate School of Eng., OsakaUniversity, Suita, Osaka, Japan)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2017  号: ISPSD  ページ: 247-250  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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