文献
J-GLOBAL ID:201702288654886375
整理番号:17A0386067
原子層堆積法による多孔質基板内部へのコンフォーマルコーティングに対する反応槽内圧力の影響
Effect of reactor pressure on the conformal coating inside porous substrates by atomic layer deposition
著者 (5件):
Poodt Paul
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Mameli Alfredo
(Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
,
Schulpen Jeff
(Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
,
Kessels W. M. M. (Erwin)
(Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
,
Roozeboom Fred
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands and Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
35
号:
2
ページ:
021502-021502-9
発行年:
2017年03月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)