文献
J-GLOBAL ID:201702288921713956
整理番号:17A0475844
高性能高分子半導体のための環境に優しい製造プロセス【Powered by NICT】
Environmentally benign fabrication processes for high-performance polymeric semiconductors
著者 (3件):
Cho Jangwhan
(Department of energy system engineering, Daegu Gyeongbuk Institute of Science & Technology (DGIST), Daegu 711-873, Republic of Korea. dchung@dgist.ac.kr)
,
Yu Seong Hoon
,
Chung Dae Sung
資料名:
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices
(Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻:
5
号:
11
ページ:
2745-2757
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2383A
ISSN:
2050-7526
CODEN:
JMCCCX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)