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文献
J-GLOBAL ID：201702288924778748
整理番号：17A1457309
MeVエネルギーでの重イオンPIXEにおけるターゲット厚さの影響を補正するための方法【Powered by NICT】
A procedure to correct for target thickness effects in heavy-ion PIXE at MeV energies
Zucchiatti Alessandro
(Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Galan Patricia
(Centro de Micro Analisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Prieto Jose Emilio
(Centro de Micro Analisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Prieto Jose Emilio
(Dpto. de Fisica de la Materia Condensada, IFIMAC and Instituto “Nicolas Cabrera”, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
資料名：
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 407 ページ： 1-4 発行年： 2017年
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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