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文献
J-GLOBAL ID：201702289142027010
整理番号：17A1380895
RF共スパッタリング法で成長させたジルコニウムドープしたHfO_2薄膜の微細構造,表面および界面の性質【Powered by NICT】
Microstructural, surface and interface properties of zirconium doped HfO2 thin films grown by RF co-sputtering technique
Das K.C.
(Department of Physics and Astronomy, National Institute of Technology, Rourkela 769008, India)
,
Tripathy N.
(Department of Physics and Astronomy, National Institute of Technology, Rourkela 769008, India)
,
Ghosh S.P.
(Department of Physics and Astronomy, National Institute of Technology, Rourkela 769008, India)
,
Sharma P.
(Department of Physics, Malaviya National Institute of Technology, Jaipur 302017, India)
,
Singhal R.
(Department of Physics, Malaviya National Institute of Technology, Jaipur 302017, India)
,
Kar J.P.
(Department of Physics and Astronomy, National Institute of Technology, Rourkela 769008, India)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 143 ページ： 288-293 発行年： 2017年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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