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文献
J-GLOBAL ID：201702289483103266
整理番号：17A1271131
自己整合ナノカーボン電界効果トランジスタのためのプラズマプロセスの影響【Powered by NICT】
Effects of the plasma process for self-aligned nano-carbon field-effect transistors
Kawahara Toshio
(Dept. of Electronic and Information Engineering, Chubu University, Kasugai 487-8501, Japan)
,
Rupesh Singh Kumar
(Dept. of Electronic and Information Engineering, Chubu University, Kasugai 487-8501, Japan)
,
Ohno Yasuhide
(Graduate School of Science and Technology, Tokushima University, 770-8501, Japan)
,
Maehashi Kenzo
(Institute of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology, 184-8588, Japan)
,
Matsumoto Kazuhiko
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 567-0047, Japan)
,
Okamoto Kazumasa
(Faculty of Engineering, Hokkaido University, 060-8628, Japan)
,
Utsunomiya Risa
(Nisshin Electric. Co., Ltd., Kyoto 615-8686, Japan)
,
Matsuba Teruaki
(Nisshin Electric. Co., Ltd., Kyoto 615-8686, Japan)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017 号： ICNF ページ： 1-4 発行年： 2017年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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