文献
J-GLOBAL ID:201702289795950519
整理番号:17A0473594
連続増加湿度での純界面活性剤による疎水性基質のぬれ【Powered by NICT】
Wetting of hydrophobic substrates by pure surfactants at continuously increasing humidity
著者 (3件):
Ivanova N.A.
(Photonics and Microfluidics Lab, Tyumen State University, Tyumen, Volodarskogo 6, 625003, Russia)
,
Kubochkin N.S.
(Photonics and Microfluidics Lab, Tyumen State University, Tyumen, Volodarskogo 6, 625003, Russia)
,
Starov V.M.
(Chemical Engineering Department, Loughborough University, Loughborough, LE11 3TU, UK)
資料名:
Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects
(Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻:
519
ページ:
71-77
発行年:
2017年
JST資料番号:
A0539B
ISSN:
0927-7757
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)