文献
J-GLOBAL ID:201702289880031690
整理番号:17A0214171
Terman法によるMoS_2MOS界面における界面トラップ密度のエネルギー分布の定量的評価【Powered by NICT】
Quantitative evaluation of energy distribution of interface trap density at MoS2 MOS interfaces by the Terman method
著者 (4件):
Takenaka M.
(Department of Electrical Engineering and Information Systems, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
,
Ozawa Y.
(Department of Electrical Engineering and Information Systems, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
,
Han J.
(Department of Electrical Engineering and Information Systems, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
,
Takagi S.
(Department of Electrical Engineering and Information Systems, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
IEDM
ページ:
5.8.1-5.8.4
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)