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文献
J-GLOBAL ID:201702290177836613   整理番号:17A1398613

化学的機械的研磨中の共通金属相互接続への帯電誘起損傷の1例【Powered by NICT】

A case of charging induced damage into the common Metal Interconnect during Chemical Mechanical Polishing
著者 (7件):
Sub Yoon Myung
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)
Hian Bernard Yap Tzen
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)
Fong Lee It
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)
Minhar Ariffin Bin
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)
Wui Tan Kim
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)
Jin Looi Hui
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)
Min Foo Thai
(X-FAB Sarawak Sdn. Bhd, Silicon Drive Sama Jaya Free Industrial Zone 93350 Kuching, Malaysia)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2017  号: ICOIP  ページ: 83-86  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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