文献
J-GLOBAL ID:201702290561244632
整理番号:17A1421038
室温で反応性スパッタリングにより得られたTiO_2被覆:スパッタリング圧力と膜厚の関数としての物理的性質【Powered by NICT】
TiO2 coatings obtained by reactive sputtering at room temperature: Physical properties as a function of the sputtering pressure and film thickness
著者 (2件):
Guillen C.
(Dep. Energia (CIEMAT), Avda. Complutense 40, Madrid 28040, Spain)
,
Herrero J.
(Dep. Energia (CIEMAT), Avda. Complutense 40, Madrid 28040, Spain)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
636
ページ:
193-199
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)