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文献
J-GLOBAL ID:201702290734592376   整理番号:17A1641112

溶液処理ジルコニウム酸化物ゲート誘電体を有するpチャネル一酸化スズトランジスタの性能改善【Powered by NICT】

Performance Improvement of p-Channel Tin Monoxide Transistors With a Solution-Processed Zirconium Oxide Gate Dielectric
著者 (5件):
Azmi Azida
(Department of Materials Science and Engineering, Inha University, Incheon, South Korea)
Lee Jiwon
(Department of Electronic Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea)
Gim Tae Jung
(Department of Electronic Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea)
Choi Rino
(Department of Materials Science and Engineering, Inha University, Incheon, South Korea)
Jeong Jae Kyeong
(Department of Electronic Engineering, Hanyang University, Seoul, South Korea)

資料名:
IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Letters)

巻: 38  号: 11  ページ: 1543-1546  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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