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文献
J-GLOBAL ID：201702291129572112
整理番号：17A1169688
制御冷却によるアニーリング後の白金プロファイルから推定したシリコン自己格子間原子の性質【Powered by NICT】
Silicon self-interstitial properties deduced from platinum profiles after annealing with controlled cooling
Johnsson Anna
(Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology, Schottkystrasse 10, 91058 Erlangen, Germany)
,
Pichler Peter
(Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology, Schottkystrasse 10, 91058 Erlangen, Germany)
,
Pichler Peter
(Chair of Electron Devices, University of Erlangen-Nuremberg, Cauerstrasse 6, 91058 Erlangen, Germany)
,
Schmidt Gerhard
(Infineon Technologies Austria AG, Siemensstrasse 2, 9500 Villach, Austria)
資料名：
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science
(Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 214 号： 7 ページ： ROMBUNNO.201700207 発行年： 2017年
JST資料番号： D0774A ISSN： 1862-6300 CODEN： PSSABA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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