文献
J-GLOBAL ID:201702291694286774
整理番号:17A1003313
低電子密度のβ-FeSi2多結晶膜の構造および電気的特性
Structural and electrical properties of β-FeSi2 polycrystalline films with low electron density
著者 (6件):
TERAI Yoshikazu
(Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
,
TERAI Yoshikazu
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
HIGASHI Takahiko
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
HATTORI Tetsu
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
OGI Kazuya
(Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
,
IKEDA Shuya
(Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
5S1
ページ:
05DD03.1-05DD03.5
発行年:
2017年05月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)