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文献
J-GLOBAL ID:201702291725035574   整理番号:17A0759460

カンチレバーエピタクシーによりナノパターン化したSi基板上の厚いAlN層の直接成長【Powered by NICT】

Direct growth of thick AlN layers on nanopatterned Si substrates by cantilever epitaxy
著者 (8件):
Demir Ilkay
(Center for Quantum Devices, Department of Electrical Engineering and Computer Science, Northwestern University, Evanston, IL, 60208-0893, USA)
Demir Ilkay
(Department of Nanotechnology Engineering, Cumhuriyet University, 58140 Sivas, Turkey)
Robin Yoann
(Center for Quantum Devices, Department of Electrical Engineering and Computer Science, Northwestern University, Evanston, IL, 60208-0893, USA)
McClintock Ryan
(Center for Quantum Devices, Department of Electrical Engineering and Computer Science, Northwestern University, Evanston, IL, 60208-0893, USA)
Elagoz Sezai
(Department of Nanotechnology Engineering, Cumhuriyet University, 58140 Sivas, Turkey)
Zekentes Konstantinos
(Center for Quantum Devices, Department of Electrical Engineering and Computer Science, Northwestern University, Evanston, IL, 60208-0893, USA)
Zekentes Konstantinos
(Foundation for Research & Technology-Hellas (FORTH), IESL, 1527 Heraklion, Greece)
Razeghi Manijeh
(Center for Quantum Devices, Department of Electrical Engineering and Computer Science, Northwestern University, Evanston, IL, 60208-0893, USA)

資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)

巻: 214  号:ページ: ROMBUNNO.201600363  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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