文献
J-GLOBAL ID:201702291732933143
整理番号:17A1345187
平均熱伝導率を用いたオンウエハSiGeH BTの熱抵抗の正確なモデル化【Powered by NICT】
Accurate Modeling of Thermal Resistance for On-Wafer SiGe HBTs Using Average Thermal Conductivity
著者 (6件):
Balanethiram Suresh
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
,
Chakravorty Anjan
(Department of Electrical Engineering, IIT Madras, Chennai, India)
,
D’Esposito Rosario
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
,
Fregonese Sebastien
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
,
Celi Didier
(STMicroelectronics, Crolles, France)
,
Zimmer Thomas
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
64
号:
9
ページ:
3955-3960
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)