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文献
J-GLOBAL ID:201702291732933143   整理番号:17A1345187

平均熱伝導率を用いたオンウエハSiGeH BTの熱抵抗の正確なモデル化【Powered by NICT】

Accurate Modeling of Thermal Resistance for On-Wafer SiGe HBTs Using Average Thermal Conductivity
著者 (6件):
Balanethiram Suresh
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
Chakravorty Anjan
(Department of Electrical Engineering, IIT Madras, Chennai, India)
D’Esposito Rosario
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
Fregonese Sebastien
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)
Celi Didier
(STMicroelectronics, Crolles, France)
Zimmer Thomas
(IMS Laboratory, University of Bordeaux, Bordeaux, France)

資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices  (IEEE Transactions on Electron Devices)

巻: 64  号:ページ: 3955-3960  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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