前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201702291878632247
整理番号：17A0086770
投影型電子顕微鏡システムを用いた11nmハーフピッチ形成のための極端紫外線リソグラフィのパターンマスク検査の最近の結果
Recent results from extreme ultraviolet lithography patterned mask inspection for 11nm half-pitch generation using projection electron microscope system
HIRANO Ryoichi
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
IIDA Susumu
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
AMANO Tsuyoshi
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
WATANABE Hidehiro
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
HATAKEYAMA Masahiro
(Ebara Corp., Fujisawa, JPN)
,
MURAKAMI Takeshi
(Ebara Corp., Fujisawa, JPN)
,
SUEMATSU Kenichi
(Ebara Corp., Fujisawa, JPN)
,
TERAO Kenji
(Ebara Corp., Fujisawa, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 9984 ページ： 99840M.1-99840M.6 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。