文献
J-GLOBAL ID:201702292084420736
整理番号:17A1380871
抵抗変化型不揮発性メモリ応用のためのCu/AlN/Pt構造におけるバイポーラ抵抗スイッチング挙動【Powered by NICT】
Bipolar resistive switching behavior in Cu/AlN/Pt structure for ReRAM application
著者 (2件):
Prakash Ravi
(Functional Nanomaterials Research Lab, Department of Physics and Centre for Nanotechnology, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee 247667, Uttarakhand, India)
,
Kaur Davinder
(Functional Nanomaterials Research Lab, Department of Physics and Centre for Nanotechnology, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee 247667, Uttarakhand, India)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
143
ページ:
102-105
発行年:
2017年
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)