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文献
J-GLOBAL ID：201702294068613557
整理番号：17A1242588
薄膜の蒸着のための新しい直接液体注入低圧化学蒸着システム(DLI LPCVD)【Powered by NICT】
A Novel Direct Liquid Injection Low Pressure Chemical Vapor Deposition System (DLI-LPCVD) for the Deposition of Thin Films
Vervaele Mattias
(KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium)
,
De Roo Bert
(KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium)
,
Debehets Jolien
(KU Leuven, Department of Materials Engineering, 3001 Heverlee, Belgium)
,
Sousa Marilyne
(IBM Research GmbH, 8803 Rueschlikon, Switzerland)
,
Zhang Luman
(KU Leuven, Department of Materials Engineering, 3001 Heverlee, Belgium)
,
Van Bilzen Bart
(KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium)
,
Sere Stephanie
(KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium)
,
Guillon Herve
(Kemstream, 34000 Montpellier, France)
,
Rajala Markku
(DCA Instruments, 20360 Turku, Finland)
,
Seo Jin Won
(KU Leuven, Department of Materials Engineering, 3001 Heverlee, Belgium)
,
Locquet Jean-Pierre
(KU Leuven, Department of Physics and Astronomy, Solid-State physics, 3001 Heverlee, Belgium)
資料名：
Advanced Engineering Materials
(Advanced Engineering Materials)
巻： 19 号： 8 ページ： null 発行年： 2017年
JST資料番号： W2018A ISSN： 1438-1656 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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