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文献
J-GLOBAL ID：201702294821393467
整理番号：17A0026339
X線イメージング用のミクロン厚のCsI(Tl)膜の作製と性能
Fabrication and Performance of Micron Thick CsI(Tl) Films for X-Ray Imaging Application
Guo Lina
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China)
,
Liu Shuang
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China)
,
Chen Dejun
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China)
,
Zhang Shangjian
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China)
,
Liu Yong
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China)
,
Zhong Zhiyong
(State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China)
,
Falco Charles M.
(College of Optical Sciences, University of Arizona, Tucson, AZ, USA)
資料名：
IEEE Transactions on Nuclear Science
(IEEE Transactions on Nuclear Science)
巻： 63 号： 3 ページ： 1827-1831 発行年： 2016年
JST資料番号： C0235A ISSN： 0018-9499 CODEN： IETNAE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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