文献
J-GLOBAL ID:201702295508406982
整理番号:17A0462308
抵抗温度検出器用ナノ構造化Ti1-xCux薄膜と電気抵抗率との関係
Relationship between nano-architectured Ti1-x Cux thin film and electrical resistivity for resistance temperature detectors
著者 (8件):
FERREIRA A.
(Univ. Minho, Braga, PRT)
,
BORGES J.
(Univ. Minho, Braga, PRT)
,
LOPES C.
(Univ. Minho, Braga, PRT)
,
RODRIGUES M. S.
(Univ. Minho, Braga, PRT)
,
LANCEROS-MENDEZ S.
(Univ. Minho, Braga, PRT)
,
LANCEROS-MENDEZ S.
(BCMaterials, Derio, ESP)
,
LANCEROS-MENDEZ S.
(IKERBASQUE, Bilbao, ESP)
,
VAZ F.
(Univ. Minho, Braga, PRT)
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
52
号:
9
ページ:
4878-4885
発行年:
2017年05月
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)