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文献
J-GLOBAL ID：201702297325396025
整理番号：17A0579225
高電圧カソードに対する導電性皮膜形成添加剤としてのテトラチオフルバレン
Tetrathiafulvalene as a Conductive Film-Making Additive on High-Voltage Cathode
KANG Yoon-Sok
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
PARK Min Sik
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
PARK Insun
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
KIM Dong Young
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
PARK Jun-Ho
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
PARK Kwangjin
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
KOH Meiten
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
,
DOO Seok-Gwang
(Samsung Electronics Co. Ltd., Gyeonggi-do, KOR)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9 号： 4 ページ： 3590-3595 発行年： 2017年02月01日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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