文献
J-GLOBAL ID:201802210047078558
整理番号:18A1358366
反応性DCマグネトロンスパッタリングにより高速で蒸着したNbドープTiO_2薄膜の電気抵抗率に及ぼすエージング効果【JST・京大機械翻訳】
Ageing effects on electrical resistivity of Nb-doped TiO2 thin films deposited at a high rate by reactive DC magnetron sputtering
著者 (10件):
Casotti Davide
(Dipartimento di Scienze Fisiche, Informatiche e Matematiche, Universita di Modena e Reggio Emilia, via G. Campi 213/a, 41125 Modena, Italy)
,
Casotti Davide
(Consiglio Nazionale delle Ricerche, Istituto Nanoscienze, via G. Campi 213/a, 41125 Modena, Italy)
,
Orsini Valentina
(Dipartimento di Scienze Fisiche, Informatiche e Matematiche, Universita di Modena e Reggio Emilia, via G. Campi 213/a, 41125 Modena, Italy)
,
di Bona Alessandro
(Consiglio Nazionale delle Ricerche, Istituto Nanoscienze, via G. Campi 213/a, 41125 Modena, Italy)
,
Gardonio Sandra
(University of Nova Gorica, Materials Research Laboratory, Vipavska 11c, 5270 Ajdovscina, Slovenia)
,
Fanetti Mattia
(University of Nova Gorica, Materials Research Laboratory, Vipavska 11c, 5270 Ajdovscina, Slovenia)
,
Valant Matjaz
(University of Nova Gorica, Materials Research Laboratory, Vipavska 11c, 5270 Ajdovscina, Slovenia)
,
Valant Matjaz
(Institute of Fundamental and Frontier Sciences, University of Electronic Science and Technology of China, 610054 Chengdu, China)
,
Valeri Sergio
(Dipartimento di Scienze Fisiche, Informatiche e Matematiche, Universita di Modena e Reggio Emilia, via G. Campi 213/a, 41125 Modena, Italy)
,
Valeri Sergio
(Consiglio Nazionale delle Ricerche, Istituto Nanoscienze, via G. Campi 213/a, 41125 Modena, Italy)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
455
ページ:
267-275
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)