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文献
J-GLOBAL ID：201802210496293921
整理番号：18A0910833
シリコンナノ粒子インクによる多孔質シリコン膜の形成:ファンデルワールス相互作用が均一な膜形成に及ぼす可能性
Porous silicon film formation from silicon-nanoparticle inks: The possibility of effects of van der Waals interactions on uniform film formation
TANAKA Kazuki
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
NAGOYA Wataru
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
MORIKI Kazuya
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
SATO Seiichi
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 2S2 ページ： 02CC05.1-02CC05.4 発行年： 2018年02月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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