文献
J-GLOBAL ID:201802213022844264
整理番号:18A1330542
ナノインプリントリソグラフィーにおける残留層厚均一化のためのチップスケールパターン修正法
Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography
著者 (3件):
YOUN Sung-Won
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SUZUKI Kenta
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
HIROSHIMA Hiroshi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
57
号:
6S1
ページ:
06HG03.1-06HG03.7
発行年:
2018年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)