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文献
J-GLOBAL ID:201802215365745480   整理番号:18A1937626

堆積後窒素プラズマ処理により実現した低抵抗相純粋n型Cu_2O膜【JST・京大機械翻訳】

Low resistivity phase-pure n-type Cu2O films realized via post-deposition nitrogen plasma treatment
著者 (6件):
Xu Meng
(Center of Nanoelectronics and School of Microelectronics, Shandong University, Jinan 250100, China)
Liu Xiaohui
(Center of Nanoelectronics and School of Microelectronics, Shandong University, Jinan 250100, China)
Xu Weidong
(Center of Nanoelectronics and School of Microelectronics, Shandong University, Jinan 250100, China)
Xu Huayong
(Center of Nanoelectronics and School of Microelectronics, Shandong University, Jinan 250100, China)
Hao Xiaotao
(School of Physics, Shandong University, Jinan 250100, China)
Feng Xianjin
(Center of Nanoelectronics and School of Microelectronics, Shandong University, Jinan 250100, China)

資料名:
Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)

巻: 769  ページ: 484-489  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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