文献
J-GLOBAL ID:201802216832779013
整理番号:18A0159380
周辺金属-絶縁体ゲートを持つPbSiショットキークランプトランジスタの電子輸送特性【Powered by NICT】
Electronic transport properties of PbSi Schottky-clamped transistors with a surrounding metal-insulator gate
著者 (4件):
Zhang Lishu
(Key Laboratory for Liquid-Solid Structural Evolution and Processing of Materials, Ministry of Education, Shandong University, Jinan 250061, People’s Republic of China. lihuilmy@hotmail.com)
,
Li Yifan
,
Li Tao
,
Li Hui
資料名:
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻:
8
号:
3
ページ:
1519-1527
発行年:
2018年
JST資料番号:
U7055A
ISSN:
2046-2069
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)