文献
J-GLOBAL ID:201802217169387648
整理番号:18A2043983
単一ウエハツール上のアルミニウム洗浄:希釈HFによる事例研究【JST・京大機械翻訳】
Aluminum Cleaning on Single Wafer Tool: A Case Study with Diluted HF
著者 (1件):
Broussous Lucile
(STMicroelectronics; 860 Rue Jean Monnet, Crolles, 38926, France)
資料名:
Solid State Phenomena
(Solid State Phenomena)
巻:
282
ページ:
226-231
発行年:
2018年
JST資料番号:
T0583A
ISSN:
1012-0394
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)