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文献
J-GLOBAL ID：201802217696060994
整理番号：18A1646043
シリコンウエハ上の金属汚染物質の除去に及ぼす希釈HF溶液中の有機酸の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of organic acids in dilute HF solutions on removal of metal contaminants on silicon wafer
Lee Dong-Hwan
(Department of Bio-Nano Technology, Hanyang University ERICA, Ansan 15588, Republic of Korea)
,
Kim Hyun-Tae
(Department of Bio-Nano Technology, Hanyang University ERICA, Ansan 15588, Republic of Korea)
,
Jang Sung-Hae
(Department of Bio-Nano Technology, Hanyang University ERICA, Ansan 15588, Republic of Korea)
,
Yi Jae-Hwan
(SK Siltron, Gumi 39386, Republic of Korea)
,
Choi Eun-Suck
(SK Siltron, Gumi 39386, Republic of Korea)
,
Park Jin-Goo
(Department of Bio-Nano Technology, Hanyang University ERICA, Ansan 15588, Republic of Korea)
,
Park Jin-Goo
(Department of Material Science and Chemical Engineering, Hanyang University ERICA, Ansan 15588, Republic of Korea)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 198 ページ： 98-102 発行年： 2018年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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