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文献
J-GLOBAL ID：201802218936201018
整理番号：18A2004706
低電力で高信頼性のFe_3O_4/Ta_2O_5二層RRAMにおける導電性フィラメント進展の解明【JST・京大機械翻訳】
Revealing conducting filament evolution in low power and high reliability Fe3O4/Ta2O5 bilayer RRAM
Chang Chia-Fu
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Chen Jui-Yuan
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Huang Guan-Min
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Lin Ting-Yi
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Tai Kuo-Lun
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Huang Chih-Yang
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Yeh Ping-Hung
(Department of Physics, Tamkang University, 151 Ying Chuan Road, Taipei 251, Taiwan)
,
Wu Wen-Wei
(Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, 1001 University Road, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Wu Wen-Wei
(Center for the Intelligent Semiconductor Nano-system Technology Research, National Chiao Tung University, Hsinchu 300, Taiwan)
,
Wu Wen-Wei
(Frontier Research Center on Fundamental and Applied Sciences of Matters, National Tsing Hua University, Hsinchu 300, Taiwan)
資料名：
Nano Energy
(Nano Energy)
巻： 53 ページ： 871-879 発行年： 2018年
JST資料番号： W3116A ISSN： 2211-2855 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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