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文献
J-GLOBAL ID：201802219362226131
整理番号：18A2042230
Fourier変換赤外分光法と陰極線ルミネセンス分光法の組合せによる4H-SiCエピタキシャル基板上の熱酸化物SiO_2膜における不均一性のキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】
Characterization of Inhomogeneity in Thermal Oxide SiO2 Films on 4H-SiC Epitaxial Substrates by a Combination of Fourier Transform Infrared Spectroscopy and Cathodoluminescence Spectroscopy
Yoshikawa Masanobu
(Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga)
,
Inoue Keiko
(Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga)
,
Sameshima Junichiro
(Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga)
,
Seki Hirohumi
(Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga)
資料名：
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻： 924 ページ： 273-276 発行年： 2018年
JST資料番号： D0716B ISSN： 0255-5476 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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