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文献
J-GLOBAL ID：201802223830554279
整理番号：18A0481401
本質的に領域選択熱線はタングステン膜の原子層堆積【Powered by NICT】
Inherently area-selective hot-wire assisted atomic layer deposition of tungsten films
Yang Mengdi
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Aarnink Antonius A.I.
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Schmitz Jurriaan
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Kovalgin Alexey Y.
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 649 ページ： 17-23 発行年： 2018年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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