文献
J-GLOBAL ID:201802223830554279
整理番号:18A0481401
本質的に領域選択熱線はタングステン膜の原子層堆積【Powered by NICT】
Inherently area-selective hot-wire assisted atomic layer deposition of tungsten films
著者 (4件):
Yang Mengdi
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Aarnink Antonius A.I.
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Schmitz Jurriaan
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
,
Kovalgin Alexey Y.
(MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
649
ページ:
17-23
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)