文献
J-GLOBAL ID:201802224329268509
整理番号:18A0910889
強誘電体ゲート絶縁膜を用いた負性容量電界効果トランジスタのフリンジ電界効果
Fringing field effects in negative capacitance field-effect transistors with a ferroelectric gate insulator
著者 (7件):
HATTORI Junichi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
FUKUDA Koichi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
IKEGAMI Tsutomu
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
OTA Hiroyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
MIGITA Shinji
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
ASAI Hidehiro
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
TORIUMI Akira
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
57
号:
4S
ページ:
04FD07.1-04FD07.7
発行年:
2018年04月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)