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文献
J-GLOBAL ID：201802224726686038
整理番号：18A0995170
真空型エレクトロスプレイ液滴イオンビームにより生成した相対二次イオン収率【JST・京大機械翻訳】
Relative secondary ion yields produced by vacuum-type electrospray droplet ion beams
Ninomiya Satoshi
(Interdisciplinary Graduate School, University of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
,
Chen Lee Chuin
(Interdisciplinary Graduate School, University of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
,
Hiraoka Kenzo
(Clean Energy Research Center, University of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 36 号： 3 ページ： 03F134-03F134-8 発行年： 2018年
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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