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J-GLOBAL ID:201802224726686038   整理番号:18A0995170

真空型エレクトロスプレイ液滴イオンビームにより生成した相対二次イオン収率【JST・京大機械翻訳】

Relative secondary ion yields produced by vacuum-type electrospray droplet ion beams
著者 (3件):
Ninomiya Satoshi
(Interdisciplinary Graduate School, University of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
Chen Lee Chuin
(Interdisciplinary Graduate School, University of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
Hiraoka Kenzo
(Clean Energy Research Center, University of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)

巻: 36  号:ページ: 03F134-03F134-8  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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