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文献
J-GLOBAL ID：201802225118537241
整理番号：18A2234511
硬X線光電子分光法によるITO/a-Si界面特性の評価【JST・京大機械翻訳】
Evaluation of ITO/a-Si interface properties by hard X-ray photoemission spectroscopy
Nishihara Tappei
(Meiji University, Kanagawa, 214-8571, Japan)
,
Kojima Takuto
(Meiji University, Kanagawa, 214-8571, Japan)
,
Hiyama Takuya
(Meiji University, Kanagawa, 214-8571, Japan)
,
Matsumura Hideki
(Japan Institute of Science and Technology, Ishikawa, 923-1211, Japan)
,
Kamioka Takefumi
(Toyota Technological Institute, Aichi, 468-8511, Japan)
,
Ohshita Yoshio
(Toyota Technological Institute, Aichi, 468-8511, Japan)
,
Yasuno Satoshi
(JASRI, Hyogo, 679-5198, Japan)
,
Hirosawa Ichiro
(JASRI, Hyogo, 679-5198, Japan)
,
Ogura Atsushi
(Meiji University, Kanagawa, 214-8571, Japan)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018 号： WCPEC ページ： 2170-2172 発行年： 2018年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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