文献
J-GLOBAL ID:201802225503983486
整理番号:18A0815086
フェムト秒レーザパルスによる酸化グラフェンの同時ナノパターン化と還元【JST・京大機械翻訳】
Simultaneous nanopatterning and reduction of graphene oxide by femtosecond laser pulses
著者 (5件):
Kasischke Maren
(Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany)
,
Maragkaki Stella
(Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany)
,
Volz Sergej
(Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany)
,
Ostendorf Andreas
(Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany)
,
Gurevich Evgeny L.
(Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
445
ページ:
197-203
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)