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J-GLOBAL ID:201802225859775421   整理番号:18A1208780

光学バンドギャップを持つ新しい2D半導体へのアクセス LPCVDによる鉄挿入二セレン化チタン薄膜の合成【JST・京大機械翻訳】

Accessing new 2D semiconductors with optical band gap: synthesis of iron-intercalated titanium diselenide thin films via LPCVD
著者 (7件):
Sanchez-Perez Clara
(University College London, Department of Chemistry, 20 Gordon St, London, WC1H 0AJ, UK. c.j.carmalt@ucl.ac.uk)
Knapp Caroline E.
Colman Ross H.
Sotelo-Vazquez Carlos
Oilunkaniemi Raija
Laitinen Risto S.
Carmalt Claire J.

資料名:
RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))

巻:号: 40  ページ: 22552-22558  発行年: 2018年 
JST資料番号: U7055A  ISSN: 2046-2069  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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