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J-GLOBAL ID:201802226522708899   整理番号:18A1261016

プラズマ支援研磨による単結晶ダイヤモンドウエハの無損傷高効率研磨【JST・京大機械翻訳】

Damage-free highly efficient polishing of single-crystal diamond wafer by plasma-assisted polishing
著者 (9件):
Yamamura K.
(Division of Precision Science & Technology and Applied Physics, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, Japan)
Yamamura K.
(Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, Japan)
Emori K.
(Division of Precision Science & Technology and Applied Physics, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, Japan)
Sun R.
(Division of Precision Science & Technology and Applied Physics, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, Japan)
Ohkubo Y.
(Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, Japan)
Endo K.
(Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, Japan)
Yamada H.
(Advanced Power Electronics Research Center, Department of Energy and Environment, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-8-31 Midorigaoka, Ikeda, Japan)
Chayahara A.
(Advanced Power Electronics Research Center, Department of Energy and Environment, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-8-31 Midorigaoka, Ikeda, Japan)
Mokuno Y.
(Advanced Power Electronics Research Center, Department of Energy and Environment, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-8-31 Midorigaoka, Ikeda, Japan)

資料名:
CIRP Annals. Manufacturing Technology  (CIRP Annals. Manufacturing Technology)

巻: 67  号:ページ: 353-356  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0026A  ISSN: 0007-8506  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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