文献
J-GLOBAL ID:201802227030412905
整理番号:18A0588244
スパッタしたチタン酸バリウムストロンチウム薄膜に及ぼす蒸着時間の影響【Powered by NICT】
The effect of deposition time on sputtered barium strontium titanate thin films
著者 (4件):
Jamaluddin F. W.
(Microwave Research Institute (MRI), Universiti Teknologi MARA (UiTM) 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia)
,
Khalid M. F.
(Microwave Research Institute (MRI), Universiti Teknologi MARA (UiTM) 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia)
,
Mamat M. H.
(NANO-ElecTronic Centre (NET), Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA(UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia)
,
Zoolfakar A. S.
(NANO-ElecTronic Centre (NET), Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA(UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
MICC
ページ:
63-65
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)