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J-GLOBAL ID:201802227705990263   整理番号:18A0712019

マグネトロンスパッタリングにより作製したCu-Ta膜の電気的および熱的性質【JST・京大機械翻訳】

Electrical and thermal properties of Cu-Ta films prepared by magnetron sputtering
著者 (7件):
Qin Wen
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)
Fu Licai
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)
Zhu Jiajun
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)
Yang Wulin
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)
Sang Jianquan
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)
Li Deyi
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)
Zhou Lingping
(College of Material Science and Engineering, Hunan University, Changsha 410082, China)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 443  ページ: 97-102  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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