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文献
J-GLOBAL ID:201802228171731446   整理番号:18A0956418

特異構造の結晶科学~結晶成長と構造・物性相関~有機金属気相成長法によるN極性窒化物半導体の成長技術

Crystal Growth Technology of N-polar Nitride Semiconductors by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy
著者 (5件):
谷川智之
(東北大 金属材料研)
PRASERTSUK Kiattiwut
(東北大 金属材料研)
木村健司
(東北大 金属材料研)
窪谷茂幸
(東北大 金属材料研)
松岡隆志
(東北大 金属材料研)

資料名:
日本結晶成長学会誌(CD-ROM)  (Journal of the Japanese Association for Crystal Growth (CD-ROM))

巻: 45  号:ページ: ROMBUNNO.45-1-01  発行年: 2018年04月 
JST資料番号: F0452C  ISSN: 2188-7268  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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