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文献
J-GLOBAL ID：201802230714236057
整理番号：18A1998836
シリコンのSSCTエッチングにより形成されたナノ構造層の形態学的および光学的性質の研究【JST・京大機械翻訳】
Investigation of morphological and optical properties of nanostructured layers formed by the SSCT etching of silicon
Jurecka Stanislav
(Institute of Aurel Stodola, University of Zilina, Nalepku 1390, 03101 Liptovsky Mikulas, Slovakia)
,
Imamura Kentaro
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, CREST, Japan Science and Technology Agency, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
,
Matsumoto Taketoshi
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, CREST, Japan Science and Technology Agency, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
,
Kobayashi Hikaru
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, CREST, Japan Science and Technology Agency, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 461 ページ： 72-77 発行年： 2018年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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