文献
J-GLOBAL ID:201802231403664404
整理番号:18A0469132
不均一磁場を有する回転プラズマにおける運動論的Alfven波の分散【Powered by NICT】
Dispersion of kinetic Alfven wave in a rotating plasma with an inhomogeneous magnetic field
著者 (2件):
Liu Y.
(School of Sciences, Nantong University, Nantong, China)
,
Teng Y.
(School of Sciences, Nantong University, Nantong, China)
資料名:
Contributions to Plasma Physics
(Contributions to Plasma Physics)
巻:
58
号:
1
ページ:
63-69
発行年:
2018年
JST資料番号:
H0173A
ISSN:
0863-1042
CODEN:
BPPHAA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)