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文献
J-GLOBAL ID：201802231835432632
整理番号：18A1320978
Cr2N薄膜の構造と特性に及ぼすターゲット電流密度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】
Effect of target current density on the structure and property of the Cr2N films deposited by hot wire plasma enhanced magnetron sputtering
Zhang Xin
(遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
,
Wang Xiaoming
(遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
,
Gao Jianbo
(遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
,
Guo Yuanyuan
(遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
,
Jie Zhiwen
(遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
,
Zhou Yanwen
(遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
資料名：
Gongneng Cailiao
(Gongneng Cailiao)
巻： 49 号： 3 ページ： 3070-3075 発行年： 2018年
JST資料番号： C2095A ISSN： 1001-9731 CODEN： GOCAEA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 中国語 (ZH)
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