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文献
J-GLOBAL ID：201802232266887684
整理番号：18A0910964
結晶イオンスライス技術によるY128およびY36カットニオブ酸リチウム単結晶薄膜の作製
Fabrication of Y128- and Y36-cut lithium niobate single-crystalline thin films by crystal-ion-slicing technique
SHUAI Yao
(Univ. Electronic Sci. and Technol. of China, Chengdu, CHN)
,
GONG Chaoguan
(Univ. Electronic Sci. and Technol. of China, Chengdu, CHN)
,
BAI Xiaoyuan
(Univ. Electronic Sci. and Technol. of China, Chengdu, CHN)
,
WU Chuangui
(Univ. Electronic Sci. and Technol. of China, Chengdu, CHN)
,
LUO Wenbo
(Univ. Electronic Sci. and Technol. of China, Chengdu, CHN)
,
BOETTGER Roman
(Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Dresden, DEU)
,
ZHOU Shengqiang
(Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Dresden, DEU)
,
TIAN Benlang
(26th Inst. of China Electronics Technol. Group Corp., Chongqing, CHN)
,
ZHANG Wanli
(Univ. Electronic Sci. and Technol. of China, Chengdu, CHN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 4S ページ： 04FK05.1-04FK05.5 発行年： 2018年04月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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