文献
J-GLOBAL ID:201802232964490683
整理番号:18A0839996
高速電子により横断された異なるドーピング密度を持つグラフェンの2層におけるプラズモンの生成【JST・京大機械翻訳】
Production of plasmons in two layers of graphene with different doping densities traversed by swift electrons
著者 (8件):
Akbari Kamran
(Department of Applied Mathematics, University of Waterloo, Waterloo, Ontario N2L 3G1, Canada)
,
Segui Silvina
(Centro Atomico Bariloche, Comision Nacional de Energia Atomica, Av. Bustillo 9500, 8400 S.C. de Bariloche, Argentina)
,
Gervasoni Juana L.
(Centro Atomico Bariloche, Comision Nacional de Energia Atomica, Av. Bustillo 9500, 8400 S.C. de Bariloche, Argentina)
,
Gervasoni Juana L.
(Instituto Balseiro (Universidad Nacional de Cuyo and CNEA), Av. Bustillo 9500, 8400 S.C. de Bariloche, Argentina)
,
Miskovic Zoran L.
(Department of Applied Mathematics, University of Waterloo, Waterloo, Ontario N2L 3G1, Canada)
,
Miskovic Zoran L.
(Waterloo Institute for Nanotechnology, University of Waterloo, Waterloo, Ontario N2L 3G1, Canada)
,
Arista Nestor R.
(Centro Atomico Bariloche, Comision Nacional de Energia Atomica, Av. Bustillo 9500, 8400 S.C. de Bariloche, Argentina)
,
Arista Nestor R.
(Instituto Balseiro (Universidad Nacional de Cuyo and CNEA), Av. Bustillo 9500, 8400 S.C. de Bariloche, Argentina)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
446
ページ:
191-195
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)