文献
J-GLOBAL ID:201802235995074429
整理番号:18A1720951
高性能ナノ結晶テルル化ビスマス薄膜を作製するための高周波マグネトロンスパッタリングにおけるH_2-Arガス混合物の使用【JST・京大機械翻訳】
Use of H2-Ar gas mixtures in radio-frequency magnetron sputtering to produce high-performance nanocrystalline bismuth telluride thin films
著者 (3件):
Takashiri Masayuki
(Department of Materials Science, Tokai University, 4-1-1 Kitakaname, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan)
,
Takano Kousuke
(Department of Materials Science, Tokai University, 4-1-1 Kitakaname, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan)
,
Hamada Jun
(Department of Materials Science, Tokai University, 4-1-1 Kitakaname, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
664
ページ:
100-105
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)