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文献
J-GLOBAL ID：201802236888482430
整理番号：18A0940463
シリコンの磁気レオロジー仕上中に発生したナノメータ表面粗さの実験的およびシミュレーション研究【JST・京大機械翻訳】
Experimental and simulation study of nanometric surface roughness generated during Magnetorheological finishing of Silicon
Khatri Neha
(CSIR - Central Scientific Instruments Organisation, 160030 Chandigarh)
,
Khatri Neha
(Academy of Scientific & Innovative Research (AcSIR), CSIR-CSIO, Chandigarh)
,
Xavier Manoj J.
(Anna University, Chennai)
,
Mishra Vinod
(CSIR - Central Scientific Instruments Organisation, 160030 Chandigarh)
,
Mishra Vinod
(Indian Institute of Technology, Delhi)
,
Garg Harry
(CSIR - Central Scientific Instruments Organisation, 160030 Chandigarh)
,
Garg Harry
(Academy of Scientific & Innovative Research (AcSIR), CSIR-CSIO, Chandigarh)
,
Karar Vinod
(CSIR - Central Scientific Instruments Organisation, 160030 Chandigarh)
,
Karar Vinod
(Academy of Scientific & Innovative Research (AcSIR), CSIR-CSIO, Chandigarh)
資料名：
Materials Today: Proceedings
(Materials Today: Proceedings)
巻： 5 号： 2 P1 ページ： 6391-6400 発行年： 2018年
JST資料番号： W3531A ISSN： 2214-7853 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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