文献
J-GLOBAL ID:201802238643842449
整理番号:18A0426573
TiNバッファ層を用いたSi(001)表面上のCoFe_2O_4薄膜のエピタキシャル集積【Powered by NICT】
Epitaxial integration of CoFe2O4 thin films on Si (001) surfaces using TiN buffer layers
著者 (9件):
Prieto Pilar
(Dpto. Fisica Aplicada M-12, Universidad Autonoma de Madrid, 28049, Madrid, Spain)
,
Marco Jose F.
(Instituto de Quimica Fisica “Rocasolano”, CSIC, 28006, Madrid, Spain)
,
Prieto Jose E.
(Centro de Microanalisis de Materiales (CMAM) and Dpto. Fisica de la Materia Condensada, Universidad Autonoma de Madrid, 28049, Madrid, Spain)
,
Ruiz-Gomez Sandra
(Dpto. de Fisica de Materiales and Unidad Asociada IQFR-CSIC, Universidad Complutense de Madrid, Madrid, E-28040, Spain)
,
Perez Lucas
(Dpto. de Fisica de Materiales and Unidad Asociada IQFR-CSIC, Universidad Complutense de Madrid, Madrid, E-28040, Spain)
,
Perez Lucas
(IMDEA Nanoscience, 28049, Madrid, Spain)
,
del Real Rafael P.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, CSIC, E-28049, Madrid, Spain)
,
Vazquez Manuel
(Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, CSIC, E-28049, Madrid, Spain)
,
de la Figuera Juan
(Instituto de Quimica Fisica “Rocasolano”, CSIC, 28006, Madrid, Spain)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
436
ページ:
1067-1074
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)