文献
J-GLOBAL ID:201802240125705047
整理番号:18A1593003
疲労荷重下の単結晶シリコンにおける亜臨界欠陥蓄積の電子イメージング【JST・京大機械翻訳】
Electronic imaging of subcritical defect accumulation in single crystal silicon under fatigue loading
著者 (4件):
Kamiya Shoji
(Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan)
,
Kongo Akira
(Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan)
,
Sugiyama Hiroko
(Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan)
,
Izumi Hayato
(Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan)
資料名:
Sensors and Actuators. A. Physical
(Sensors and Actuators. A. Physical)
巻:
279
ページ:
705-711
発行年:
2018年
JST資料番号:
B0345C
ISSN:
0924-4247
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)