文献
J-GLOBAL ID:201802240943843797
整理番号:18A0796801
高温,マイクロコントローラベースのSILAR堆積によって得られたZnO膜の性質に及ぼす堆積後アニーリングの影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of post-deposition annealing on the properties of ZnO films obtained by high temperature, micro-controller based SILAR deposition
著者 (4件):
Ashith V.K.
(Department of Physics, Manipal Institute of Technology, Manipal Academy of Higher Education, Manipal, Karnataka 576104, India)
,
Rao Gowrish K.
(Department of Physics, Manipal Institute of Technology, Manipal Academy of Higher Education, Manipal, Karnataka 576104, India)
,
Moger Sahana N.
(Department of Physics, Manipal Institute of Technology, Manipal Academy of Higher Education, Manipal, Karnataka 576104, India)
,
R Smitha
(Department of Physics, Manipal Institute of Technology, Manipal Academy of Higher Education, Manipal, Karnataka 576104, India)
資料名:
Ceramics International
(Ceramics International)
巻:
44
号:
9
ページ:
10669-10676
発行年:
2018年
JST資料番号:
H0705A
ISSN:
0272-8842
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)